高温裂解法生产气相超细二氧化硅生产原理

　　生产原理

　　高温裂解法生产气相超细二氧化硅是将四氯化硅高温气化，在氢氧焰中经高温水解而得气相超细二氧化硅，其反映式如下：

　　1000℃

　　SiCl4 +2H2 +O2 ─→ SiO2 + 4HCl

　　生产方法

　　气相超细二氧化硅的生产流程图如下：

　　空气→纳氏泵→汽水分离器→除雾器→冷冻脱水塔→硅胶干燥器

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　　H2→纳氏泵→汽水分离器→除雾器→冷冻脱水器 氢气除尘过滤器

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　　硅胶干燥器 │

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　　氢气除尘过滤器→氢气阻火器│

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　　SiCl4→精流塔→冷凝器→气化器────→合成水解炉

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　　空气 分离器

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　　成品←脱酸炉←脱酸炉←料斗←凝集器

　　流程简介：空气经纳氏泵加压后，]经气水分离器除雾冷冻脱水，硅胶干燥过滤除尘后分两路，一路到合成水解炉，一路到气化器作四氯化碳载体。这样就得到超细二氧化硅了。